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更新日:令和6(2024)年10月4日
ページ番号:12816
概要 |
本装置はショットキーFE電子銃を搭載しているため試料の高分解能観察評価ができます。また、試料室を低真空(10から300パスカル)に保つことができるため、水分や油分を含んだ試料の観察が可能です。 |
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製造者 |
株式会社日立ハイテクノロジーズ |
型番 |
SU6600 |
導入年度 |
2013 |
備考 |
この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省平成24年度補正予算事業)により整備しました。 |
二次電子分解能 |
1.2ナノメートル(高真空モード)、3.0ナノメートル(低真空モード) |
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反射電子分解能 | 3.0ナノメートル(高真空モード) |
試料室到達真空度 | 高真空:7×10-4パスカル、低真空:10から300パスカル |
概要 |
本装置は電子顕微鏡で観察する際に発生する元素固有のX線(特性X線)を検出分析します。 SDD(Silicon Drift Detector)は、スループットと分解能の優れた窒素レスです。 |
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製造者 |
アメテックス株式会社 |
型番 |
Octane Super |
導入年度 |
2013 |
備考 |
この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省平成24年度補正予算事業)により整備しました。 |
検出範囲 |
Be(4)からAm(95) |
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冷却方式 | ペルチェ冷却 |
検出素子面積 | 60ミリメートル2 |
エネルギー分解能 | 129eV |
概要 |
導電性のない試料(生物、高分子材料など)を走査型電子顕微鏡で観察するとき、試料表面の帯電による像障害を防止するため、本装置で試料表面にPt(白金)、Au(金)等の金属を数ナノメートルから数十ナノメートル程度の厚さでコーティングします。 |
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製造者 |
株式会社日立ハイテクノロジーズ |
型番 |
E-1045 |
導入年度 |
2013 |
備考 |
この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。 |
放電方式 |
ダイオード放電マグネトロン形 |
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時間設定範囲 | 5から300秒 |
ターゲット | Pt、Pt-Pd(組成比8対2)、Au、Au-Pd(組成比6対4) |
最大試料サイズ | 直径:60ミリメートル、高さ20ミリメートル |
概要 |
本装置は、走査電子顕微鏡(SEM)、表面分析装置(EDX、EBSPなど)用の試料前処理装置で、アルゴンイオンビームにより試料の表面層の除去や断面試料の最終仕上げに威力を発揮します。 |
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製造者 |
株式会社日立ハイテクノロジーズ |
型番 |
IM-4000 |
導入年度 |
2013 |
備考 |
この設備は地域新産業創出基盤強化事業(経済産業省 平成24年度補正予算事業)により整備しました。 |
区分 | 断面ミリング |
平面ミリング |
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使用ガス | アルゴンガス |
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加速電圧 | 0から6キロボルト |
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最大ミリングレート | 毎時約300マイクロメートル【材料:Si】 | 毎時約2マイクロメートル【材料:Si】 |
最大試料サイズ |
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